Mesin pelapisan PVD adalah alat industri canggih yang dirancang untuk menerapkan lapisan film tipis pada berbagai substrat melalui teknologi Physical Vapor Deposition. PVD adalah proses berbasis vakum yang melibatkan penguapan bahan padat dan pengembunan pada permukaan target, menghasilkan lapisan yang seragam, tahan lama, dan berkinerja tinggi. Metode ini banyak digunakan di berbagai industri seperti elektronik, otomotif, dirgantara, dan perangkat medis karena kemampuannya untuk meningkatkan sifat permukaan seperti kekerasan, ketahanan aus, dan perlindungan korosi.

Mesin ini biasanya terdiri dari ruang vakum, elemen pemanas, sumber bahan target, dan sistem kontrol yang canggih. Selama pengoperasian, lingkungan vakum mencegah kontaminasi, memastikan kemurnian dan kualitas film yang disimpan. Teknik PVD yang umum termasuk sputtering dan penguapan, masing-masing cocok untuk aplikasi tertentu. Misalnya, sputtering sangat ideal untuk membuat lapisan presisi pada semikonduktor, sementara penguapan sering digunakan untuk hasil akhir optik dan dekoratif.