Mesin pelapis PVD atau Physical Vapor Deposition adalah perangkat industri canggih yang digunakan untuk menerapkan film tipis bahan ke permukaan substrat.Proses ini terjadi di ruang vakum tinggi untuk mencegah kontaminasi dan memastikan lingkungan deposit murniPrinsip dasarnya adalah mengubah bahan lapisan padat, yang dikenal sebagai target, menjadi fase uap, yang kemudian mengembun pada benda kerja.

Metode PVD yang paling umum adalah penguapan dan sputtering. Dalam penguapan termal, bahan target dipanaskan ke titik penguapan dengan menggunakan sinar elektron atau pemanasan resistif.Atom-atom yang menguap bergerak dalam garis lurus dan menetap di substratSputtering, teknik yang lebih banyak digunakan melibatkan pemboman target dengan ion energi, biasanya dari plasma gas inert seperti argon.yang kemudian menetap pada substrat.

Lapisan PVD terkenal karena meningkatkan sifat permukaan. Mereka secara signifikan meningkatkan kekerasan, ketahanan aus, dan ketahanan korosi.Aplikasi umum termasuk deposit lapisan dekoratif dan pelindung pada jam tanganDalam industri alat, lapisan PVD seperti titanium nitride secara drastis memperpanjang umur alat pemotong.Aplikasi canggih melibatkan lapisan optik untuk lensa dan lapisan fungsional untuk semikonduktorFilm yang dihasilkan sangat tipis, padat, dan menunjukkan adhesi yang sangat baik, membuat PVD teknologi penting dalam manufaktur modern dan teknik kinerja tinggi.