| Nama Merek: | JXS |
| MOQ: | 1 set |
| harga: | negotiable |
| Ketentuan Pembayaran: | T/t, l/c |
| Kemampuan Pasokan: | 100 set/tahun |
Mesin pelapis PVD (Physical Vapor Deposition) adalah peralatan industri canggih yang digunakan untuk menerapkan pelapis tipis dan tahan lama pada berbagai bahan.Ini bekerja dengan menguap bahan lapisan padat di ruang vakum dan mendepositkannya ke substrat melalui kondensasiProses ini menciptakan lapisan yang sangat perekat, seragam dengan ketahanan keausan yang sangat baik dan perlindungan korosi.
Mesin pelapis PVD banyak digunakan di industri seperti otomotif, kedirgantaraan, elektronik, dan perangkat medis untuk meningkatkan kinerja produk dan umur panjang.Lapisan umum termasuk titanium nitride (TiN), kromium nitrida (CrN), dan karbon seperti berlian (DLC), yang meningkatkan kekerasan, mengurangi gesekan, dan memberikan hiasan.
Mesin-mesin ini bekerja di bawah kondisi suhu dan tekanan yang tepat, memastikan kualitas pelapis yang konsisten.karena mereka menghasilkan limbah minimal dan menghindari bahan kimia berbahayaDengan kemajuan teknologi, mesin PVD modern menawarkan efisiensi, otomatisasi, dan kustomisasi yang lebih tinggi untuk berbagai aplikasi industri.
| Sistem kontrol | Full Auto |
|---|---|
| Jenis Mesin | Peralatan Lapisan |
| Substrat | Logam, kaca, keramik, PVC dll. |
| Warna Lapisan | Emas, Perak, Emas Mawar, dll. |
| Aplikasi | Industri, Laboratorium, cangkir kaca, keramik, jam tangan dan perhiasan |
| Lokasi | Foshan |
| Merek Pompa | JXS |
| Jaminan | 1 tahun |
Mesin pelapis PVD (Physical Vapor Deposition) adalah peralatan industri canggih yang digunakan untuk menerapkan pelapis tipis dan tahan lama pada berbagai bahan.Teknologi ini melibatkan penguapan bahan lapisan padat dalam ruang vakum dan mendepositkannya pada substrat melalui kondensasi. Mesin pelapis PVD banyak digunakan di industri seperti otomotif, aerospace, perangkat medis, dan alat pemotong karena kemampuan mereka untuk menciptakan tahan aus, tahan korosi,dan hiasan akhir.
Mesin ini biasanya terdiri dari ruang vakum, catu daya, elemen pemanas, dan bahan target.Proses ini terjadi pada suhu yang relatif rendahLapisan yang dihasilkan sangat tipis (biasanya 0,5-5 mikron) namun sangat tahan lama, dengan adhesi yang sangat baik pada substrat.