Apa itu PVD?

Lapisan PVD terutama mencakup multi busur (arc cathodic), magnetron sputtering dan penguapan termal.

Multi busur menggunakan sumber busur tinggi saat ini untuk memanaskan target logam menjadi ion, kemudian bereaksi dengan gas yang berbeda (Ar, N ₂ , C ₂ H ₂ , O ₂ ) untuk disimpan pada permukaan produk.

Berbeda dari multi busur, energi magnetron sputtering ditawarkan oleh medan magnet dan ion gas Ar, dengan membombardir dari target gas dan logam Ar, lebih banyak ion akan dibuat, kemudian bereaksi terhadap endapan.

Dibandingkan dengan 2 tipe di atas, penguapan termal lebih mudah dipahami. Itu hanya menggunakan kawat tungsten untuk memanaskan kawat aluminium (kawat krom nikel, kawat tembaga merah, kawat timah, kawat indium, dll.) Ke dalam atom untuk disimpan.